污水厂uv光氧除臭设备光催化氧化技术

未知, 2020-12-11 14:20, 次浏览

污水厂uv光氧除臭设备光催化氧化技术
 
光催化是在必定波长光照条件下,半导体材料发生光生载流子的别离,然后光生电子和空穴在与离子或分子结合生成具有氧化性或还原性的活性自由基,这种活性自由基能将有机物***分子降解为二氧化碳或其他小分子有机物以及水,在反应过程中这种半导体材料也是光催化剂自身不发生改变,废气和恶臭气体进入集成设备后,通过UV紫外光束区时,被紫外光波高能有用率地照耀,瞬间发生光解反应,翻开废气和臭味污染物分子的化学键,损坏其分子结构和核酸;使用高能紫外光波分化空气中的氧分子发生游离氧,即活性氧,因游离氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合,然后发生臭氧,使呈游离状况的污染物分子与臭氧氧化结组成小分子无害或低害的化合物。如CO2、H2O 等。 UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。
UV紫外光解与等离子分化如此有用协同地发生一系列光解和分化反应,通过复合式多级净化后然后合格排放!既能安全有用地净化管理各种有害废气,又能有用洁净地去除各种恶臭滋味。